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포토레지스트 관련주, 반도체 디스플레이용 소재 수요 증가

리치메이커 유노이안 2026. 2. 28.
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포토레지스트 관련주, 반도체·디스플레이 공정 확장 수혜 기대

초미세 공정 확대와 차세대 디스플레이 전환이 포토레지스트 수요를 키우는 이유


AI 반도체와 OLED·Micro-LED 등 차세대 디스플레이 기술이 폭발적으로 성장하면서, 이들의 공정 핵심인 포토레지스트(Photoresist) 수요가 동반 급증하고 있습니다. 특히 반도체 회로의 미세화, 패키징 고도화, 디스플레이 고해상도화에 따라 EUV·ArF 포토레지스트는 기술 경쟁력의 핵심 소재로 자리 잡고 있습니다. 본문에서는 포토레지스트 수요 증가의 구조적 배경과 대표 수혜 종목들의 주가 전망 및 투자 전략을 정리합니다.


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동진쎄미켐: 국내 포토레지스트 산업의 대장주

동진쎄미켐은 KrF, ArF, EUV 포토레지스트 완제품 생산 기술을 모두 보유한 유일한 국내 기업입니다. 삼성전자, SK하이닉스의 첨단 공정에 국산화된 PR 소재를 공급하며, 반도체·디스플레이 양쪽에서 성장성이 부각되고 있습니다.

구분내용

주요 제품 KrF, ArF, EUV 포토레지스트
경쟁력 국내 최초 EUV PR 상용화 성공, 삼성전자 주요 공급사
시장 점유율 KrF 기준 글로벌 상위권
성장 모멘텀 AI 반도체 확산 + EUV 공정 확대
목표주가 공식 리포트 없음, 업계 분석 기준 중기 50,000원대 평가

투자 요약: 반도체 슈퍼사이클 본격화와 함께 주가 재평가가 유력한 국내 최우선 포토레지스트 완제품 기업입니다.


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삼양엔씨켐: 포토레지스트 핵심 소재(PAG·Polymer) 전문 공급

삼양엔씨켐은 포토레지스트의 주성분인 **PAG(감광제), Polymer(고분자화합물)**을 제조하여 PR 제조업체에 납품하는 핵심 소재 기업입니다. EUV/ArF용 첨단 소재의 국산화와 글로벌 수출 확대를 추진하고 있어 성장 기대가 큽니다.

구분내용

핵심 제품 EUV/ArF PR용 PAG, Polymer
고객사 국내 PR 제조사 및 해외 반도체 소재 기업
경쟁력 소재 국산화 + 글로벌 공급망 확보
수요 확대 요인 AI 반도체·디스플레이용 고정밀 공정 수요
목표주가 공식 리포트 없음, 시장에서는 중기 30,000원대 이상 잠재력 언급

투자 요약: 완제품보다는 핵심 원소재 공급사로서의 구조적 수요가 강점이며, 공급망 다변화 수혜가 기대됩니다.


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이엔에프테크놀로지: 반도체 공정 전반에 특화된 소재기업

이엔에프테크놀로지는 포토레지스트 전구체뿐 아니라 CMP 슬러리, 식각액 등 반도체 전 공정에 들어가는 케미컬 기반 소재를 생산합니다. 최근 실적 반등과 함께 AI용 HBM 반도체 공정 수요 확대에 따른 수혜가 기대됩니다.

구분내용

제품군 포토레지스트 원재료, CMP 슬러리, 식각액
실적 흐름 2025년 1분기 매출 + 영업이익 큰 폭 성장
고객사 반도체 공정소재 통합 공급사
성장성 반도체·디스플레이 고공정 기술 확대 수혜
목표주가 공식 목표가 미제시, 중형주 특성상 밸류 대비 주가 상승 여력 있음

투자 요약: 단일 PR 종속이 아닌 공정 전체에 걸친 소재 포트폴리오가 강점이며, 실적 기반 접근 가능 종목입니다.


경인양행: 포토레지스트 감광재(PAC) 원료 독점 강자

경인양행은 포토레지스트의 화학 반응 핵심 성분인 **감광재(PAC)**를 생산하며, 글로벌 시장에서 30% 이상 점유율을 보유하고 있습니다. 원료 산업 특성상 변동성이 적고, 반도체 업황과 함께 매출이 자연스럽게 성장하는 구조입니다.

구분내용

제품군 PAC, 정밀화학 소재
시장 포지션 PR 원료 시장 지배적 점유율
성장 요인 전 세계 PR 생산량 증가 = PAC 수요 동반 증가
목표주가 공식 목표가 없음, 보수적 실적 기반 평가 대상

투자 요약: 상대적으로 보수적 성격이 강한 안정형 PR 원료주로, 중장기 분산 투자 포트로 적합합니다.


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에스앤에스텍: EUV 블랭크마스크와 펠리클의 유일한 국산화 주자

에스앤에스텍은 포토레지스트와 함께 노광 공정에 필수적으로 사용되는 EUV용 블랭크마스크와 펠리클을 생산하며, EUV 공정 확대의 핵심 수혜주로 꼽힙니다. 최근 고부가 제품 비중 증가로 수익성도 개선 중입니다.

구분내용

주요 제품 EUV 블랭크마스크, 펠리클
경쟁력 일본 독점 시장에 유일하게 국산화 성공
수요 확대 EUV 미세공정 확산 + 공정 정밀도 강화
목표주가 일부 리포트 기준 50,000~55,000원 언급

투자 요약: 공정 소재 중에서도 기술 진입 장벽이 가장 높은 고부가 핵심 부품주로, 장기 수혜가 유력합니다.


포토레지스트 관련 종목 투자 비교표

종목명주요 제품포지션목표주가 정보투자 요약

동진쎄미켐 EUV/ArF PR 완제품 국내 대표 PR 기업 없음 (리서치 언급 50,000원대) 슈퍼사이클 핵심 대장주
삼양엔씨켐 PR용 PAG·Polymer 원소재 공급 없음 (30,000원 이상 언급) 국산화 + 수출 확대
이엔에프테크놀로지 PR 전구체 + 식각액 외 공정 전체 소재 없음 실적 기반 성장형
경인양행 PAC (감광재) 원료 독점형 없음 안정 수익 기반 분산 포트
에스앤에스텍 블랭크마스크, 펠리클 EUV 고부가 부품 50,000~55,000원 일부 언급 장기 핵심 수혜주


투자전략 가이드: 지금 포토레지스트주에 주목해야 할 3가지 이유

  1. 초미세 공정 확대 = PR 단가·사용량 급증
    → 5nm 이하, HBM, Chiplet, 3D 패키징 확대는 PR 시장 확대의 직접적 요인입니다.
  2. 디스플레이 전환(OLED, Micro-LED)
    → 고해상도 구현을 위한 미세 패턴용 PR 수요 증가, 특히 감광도 높은 제품의 수요 급증
  3. 소재 국산화·공급망 재편 수혜
    → 일본 수입 의존도 축소와 함께 국내 소재사 중심 공급 확대가 진행 중입니다.

 

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